GaN-On-Sapphire 6 inç

Përshkrim i shkurtër:

GaN 150 mm 6 inç në meshë silikoni/safir/SiC me shtresë epi-shtresore Meshë epitaksiale me nitrid galium

Vaferi i nënshtresës prej safiri 6 inç është një material gjysmëpërçues me cilësi të lartë i përbërë nga shtresa të nitridit të galiumit (GaN) të rritura në një substrat safiri.Materiali ka veti të shkëlqyera të transportit elektronik dhe është ideal për prodhimin e pajisjeve gjysmëpërçuese me fuqi dhe frekuencë të lartë.


Detajet e produktit

Etiketat e produktit

GaN 150 mm 6 inç në meshë silikoni/safir/SiC me shtresë epi-shtresore Meshë epitaksiale me nitrid galium

Vaferi i nënshtresës prej safiri 6 inç është një material gjysmëpërçues me cilësi të lartë i përbërë nga shtresa të nitridit të galiumit (GaN) të rritura në një substrat safiri.Materiali ka veti të shkëlqyera të transportit elektronik dhe është ideal për prodhimin e pajisjeve gjysmëpërçuese me fuqi dhe frekuencë të lartë.

Metoda e prodhimit: Procesi i prodhimit përfshin rritjen e shtresave GaN në një nënshtresë safiri duke përdorur teknika të avancuara si depozitimi i avullit kimik metal-organik (MOCVD) ose epitaksi me rreze molekulare (MBE).Procesi i depozitimit kryhet në kushte të kontrolluara për të siguruar cilësi të lartë kristal dhe film uniform.

Aplikacionet GaN-On-Sapphire 6 inç: Çipat e nënshtresës së safirit 6 inç përdoren gjerësisht në komunikimet me mikrovalë, sistemet e radarëve, teknologjinë me valë dhe optoelektronikën.

Disa aplikacione të zakonshme përfshijnë

1. Përforcues i fuqisë Rf

2. Industria e ndriçimit LED

3. Pajisjet e komunikimit të rrjetit pa tela

4. Pajisje elektronike në mjedis me temperaturë të lartë

5. Pajisje optoelektronike

Specifikat e produktit

- Madhësia: Diametri i nënshtresës është 6 inç (rreth 150 mm).

- Cilësia e sipërfaqes: Sipërfaqja është lëmuar imët për të siguruar cilësi të shkëlqyer të pasqyrës.

- Trashësia: Trashësia e shtresës GaN mund të personalizohet sipas kërkesave specifike.

- Paketimi: Nënshtresa është e paketuar me kujdes me materiale antistatike për të parandaluar dëmtimin gjatë transportit.

- Skajet e pozicionimit: Nënshtresa ka skaje pozicionuese specifike që lehtësojnë shtrirjen dhe funksionimin gjatë përgatitjes së pajisjes.

- Parametra të tjerë: Parametrat specifikë si hollësia, rezistenca dhe përqendrimi i dopingut mund të rregullohen sipas kërkesave të klientit.

Me vetitë e tyre superiore të materialit dhe aplikimet e ndryshme, vaferat e nënshtresës prej safiri 6 inç janë një zgjedhje e besueshme për zhvillimin e pajisjeve gjysmëpërçuese me performancë të lartë në industri të ndryshme.

Nënshtresa

6” 1mm <111> p-tipi Si

6” 1mm <111> p-tipi Si

Epi i trashë mesatar

~ 5 um

~ 7 um

Epi ThickUnif

<2%

<2%

Përkuluni

+/-45um

+/-45um

Plasaritje

<5 mm

<5 mm

BV vertikale

> 1000 V

> 1400 V

HEMT Al%

25-35%

25-35%

HEMT Mesatare e trashë

20-30 nm

20-30 nm

Kapak Insitu SiN

5-60 nm

5-60 nm

2 DEG konk.

~ 1013cm-2

~ 1013cm-2

Lëvizshmëria

~ 2000 cm2/Vs (<2%)

~ 2000 cm2/Vs (<2%)

Rsh

<330ohm/sq (<2%)

<330ohm/sq (<2%)

Diagrami i detajuar

GaN-On-Sapphire 6 inç
GaN-On-Sapphire 6 inç

  • E mëparshme:
  • Tjetër:

  • Shkruani mesazhin tuaj këtu dhe na dërgoni