Napolita SiC 4 inç 6H Substrate gjysmë-izoluese SiC të gradës bazë, kërkimore dhe artificiale

Përshkrim i shkurtër:

Substrati gjysmë i izoluar i karbit të silicit formohet me anë të prerjes, bluarjes, lustrimit, pastrimit dhe teknologjive të tjera të përpunimit pas rritjes së kristalit gjysmë të izoluar të karbit të silicit. Një shtresë kristali ose shtresë shumështresore rritet në substrat që plotëson kërkesat e cilësisë si epitaksi, dhe më pas pajisja RF me mikrovalë prodhohet duke kombinuar dizajnin e qarkut dhe paketimin. I disponueshëm si substrate industriale gjysmë të izoluara të karbit të silicit 2 inç, 3 inç, 4 inç dhe 6 inç, 8 inç, për qëllime kërkimore dhe testimi.

Na dërgoni email

Karakteristikat

Specifikimi i Produktit

Klasa			Shkalla e Prodhimit Zero MPD (Shkalla Z)			Klasa Standarde e Prodhimit (Klasa P)		Nota e rreme (Nota D)
Diametri			99.5 mm~100.0 mm
	4H-SI		500 μm ± 20 μm			500 μm ± 25 μm
Orientimi i pllakave të pllakës			Jashtë boshtit: 4.0° drejt < 1120 > ±0.5° për 4H-N, Në bosht: <0001>±0.5° për 4H-SI
	4H-SI		≤1 cm^-2			≤5 cm^-2		≤15 cm^-2
	4H-SI		≥1E9 Ω·cm					≥1E5 Ω·cm
Orientimi Kryesor i Sheshtë		{10-10} ±5.0°
Gjatësia kryesore e sheshtë		32.5 mm±2.0 mm
Gjatësia e sheshtë sekondare		18.0 mm±2.0 mm
Orientimi i sheshtë dytësor		Silikoni sipër: 90° Kthesë në drejtim të kundërt nga niveli i sheshtë i Prime ±5.0°
Përjashtim i skajit		3 mm
LTV/TTV/Hark /Shtrembërim		≤3 μm/≤5 μm/≤15 μm/≤30 μm						≤10 μm/≤15 μm/≤25 μm/≤40 μm
Vrazhdësi			Fytyrë C				polak		Ra≤1 nm
			Fytyrë Si	CMP	Ra≤0.2 nm					Ra≤0.5 nm
Çarje në skaje nga drita me intensitet të lartë		Asnjë						Gjatësia kumulative ≤ 10 mm, e vetme gjatësi ≤2 mm
Pllaka gjashtëkëndëshe me dritë me intensitet të lartë		Sipërfaqja kumulative ≤0.05%						Sipërfaqja kumulative ≤0.1%
Zonat politipike me dritë me intensitet të lartë		Asnjë						Sipërfaqja kumulative ≤3%
Përfshirjet vizuale të karbonit		Sipërfaqja kumulative ≤0.05%						Sipërfaqja kumulative ≤3%
Gërvishtjet e Sipërfaqes së Silikonit nga Drita me Intensitet të Lartë		Asnjë						Gjatësia kumulative ≤1 * diametri i pllakës
Çipsa të skajeve me intensitet të lartë të dritës		Asnjë e lejuar ≥0.2 mm gjerësi dhe thellësi						5 të lejuara, ≤1 mm secila
Ndotja e Sipërfaqes së Silikonit nga Intensiteti i Lartë		Asnjë
Paketimi		Kasetë me shumë pllaka ose enë me një pllaka të vetme